Samsung Foundry، یکی از شرکت های تابعه سامسونگ الکترونیک که در زمینه تولید تراشه فعالیت می کند، آخرین نقشه راه لیتوگرافی خود را منتشر کرده است. این شرکت تولید لیتوگرافی SF2 (کلاس 2 نانومتری) را در سال 2025 آغاز خواهد کرد و لیتوگرافی SF1.4 (کلاس 1.4 نانومتری) در سال 2027 وارد بازار خواهد شد.
بر اساس گزارش AnandTech، لیتوگرافی SF2 با فرض ثابت بودن سرعت کلاک و پیچیدگی تراشه، مصرف برق را تا 25 درصد نسبت به SF3 کاهش می دهد، توان را 12 درصد افزایش می دهد و سطح تراشه را تا 5 درصد افزایش می دهد.
برای رقابتی تر کردن SF2، سامسونگ قصد دارد تراشه هایی بر اساس این لیتوگرافی با استانداردهای پیشرفته ای مانند LPDDR5x و HBM3P و PCIe Gen6 بسازد.
در سال 2026، پس از SF2، سامسونگ به سمت SF2P حرکت خواهد کرد که برای محاسبات با توان بالا (HPC) بهینه خواهد شد. یک سال بعد، SF2A Lithography با تمرکز بر صنعت خودرو وارد می شود. همزمان شاهد آغاز تولید انبوه لیتوگرافی SF1.4 خواهیم بود.
لیتوگرافی 2 نانومتری سامسونگ تقریباً همزمان با لیتوگرافی TSMC N2 (کلاس 2 نانومتری) عرضه می شود. اینتل گفت که لیتوگرافی 20A (کلاس 2 نانومتری) را تقریباً یک سال زودتر در دسترس مشتریان خود قرار خواهد داد.
سامسونگ اعلام کرد که به سرمایه گذاری در فناوری فرکانس رادیویی ادامه خواهد داد. لیتوگرافی RF 5 نانومتری این شرکت در نیمه اول سال 2025 آماده خواهد شد. در مقایسه با لیتوگرافی RF 14 نانومتری، این لیتوگرافی مصرف برق را تا 40 درصد کاهش می دهد و تراکم ترانزیستور را تا حدود 50 درصد افزایش می دهد.
سامسونگ همچنین ساخت قطعات نیمه هادی گالیوم نیترید (GaN) را در سال 2025 آغاز خواهد کرد. این تراشه ها در محصولات الکترونیکی و مراکز داده و در صنعت خودرو استفاده خواهند شد. غول صنعت فناوری کره نیز به دنبال توسعه خط تولید خود در کشورهای مختلف است.